Deutsches Patent- und Markenamt: Internationale Zusammenarbeit
Schutz des geistigen Eigentums
Das geistige Eigentum ist aus unseren Tageszeitungen nicht mehr wegzudenken. Wir lesen im Wirtschaftsteil regelmäßig, wie sehr die Zahl der Patent- und Markenanmeldungen bei allen nationalen und internationalen Institutionen des gewerblichen Rechtsschutzes von Jahr zu Jahr steigt. Im Politikteil der Zeitungen wird über Anstrengungen berichtet, den Schutz geistigen Eigentums bzw. dessen Durchsetzung zu verbessern. Unsere Regierungen räumen dem geistigen Eigentum einen hohen Stellenwert ein. Für die Bundesregierung war es konsequenterweise ein Schlüsselthema im Rahmen der EU-Ratspräsidentschaft in der ersten Jahreshälfte 2007.
Die Aufgaben, die von den Ämtern für geistiges Eigentum wahrgenommen werden, kommen der Kreativität und dem Erfindergeist national und international zugute. Insbesondere Wirtschaft, Wissenschaft und Einzelerfinder haben ein zentrales Interesse, dass ihr geistiges Eigentum vor Nachahmung geschützt wird. Der Schutz des geistigen Eigentums sichert Innovationen. Innovationen sichern die Wettbewerbsfähigkeit sowohl der Unternehmen als auch einer Volkswirtschaft. Die Wettbewerbsfähigkeit von Wirtschaftsräumen sichert den Wohlstand und damit die Zukunft der dort lebenden Menschen.
Der Präsident des Bundesverbands der Deutschen Industrie, Jürgen Thumann, formulierte Ende März 2007 bei der im Rahmen der deutschen EU-Ratspräsidentschaft in Berlin veranstalteten Patentkonferenz die Erwartungen der deutschen Industrie wie folgt: „Patente müssen zügiger, kostengünstiger und auf hohem technischem Niveau erteilt werden." Diese Erwartung wird sicherlich von der gesamten europäischen Industrie und über die Grenzen Europas hinaus geteilt. Das bedeutet: Die Patentämter weltweit müssen aktiv werden. Unverzichtbar ist dabei der Meinungsaustausch auf internationaler Ebene. Das Deutsche Patent- und Markenamt widmet sich daher intensiv der Zusammenarbeit mit anderen Patentbehörden.
Volksrepublik China
Seit dem Beitritt der Volksrepublik China zur Welthandelsorganisation (WTO) im Jahre 2001 hat das Land auf eindrucksvolle Weise seinen politischen Willen zur Umsetzung der Verpflichtungen aus dem sog. TRIPS-Abkommen (dem Übereinkommen über handelsbezogene Aspekte der Rechte des geistigen Eigentums) bewiesen. Dies zeigt, dass China dem nationalen und internationalen gewerblichen Rechtsschutz und dem Urheberrecht große Bedeutung beimisst.
In den 80er Jahren des letzten Jahrhunderts baute die Volksrepublik China ihr eigenes System des gewerblichen Rechtsschutzes auf. Das Deutsche Patent- und Markenamt (DPMA) leistete einen fundierten Beitrag dazu, dieses mittlerweile sehr erfolgreiche System des gewerblichen Rechtsschutzes in China zu etablieren. SIPO ist mittlerweile mit 210.000 Patentanmeldungen allein im Jahr 2006 das drittgrößte nationale Patentamt weltweit. Die enge Zusammenarbeit der beiden Ämter bereits in der Gründungsphase hat dazu geführt, dass sich das chinesische und das deutsche Patentgesetz weitgehend entsprechen.
Im Mai 2007 veranstaltete das Deutsche Patent- und Markenamt zusammen mit dem Staatlichen Amt für Geistiges Eigentum der Volksrepublik China (SIPO) ein gemeinsames „Chinesisch-Deutsches Symposium auf dem Gebiet des Geistigen Eigentums" in Peking, an dem zahlreiche Vertreterinnen und Vertreter der Wirtschaft und der Anwaltschaft teilnahmen. Dabei wurden die neuesten Entwicklungen beider Ämter sowie aktuelle Fragen des Geistigen Eigentums wie beispielsweise der Schutz biotechnologischer Erfindungen erörtert.
Im Oktober 2007 wurde in Shanghai ein Partnerschaftsabkommen unterzeichnet, mit dem die seit nahezu 30 Jahren bestehende Zusammenarbeit für die Jahre 2008 bis 2010 fortgeschrieben wird. Derzeit plant das Deutsche Patent- und Markenamt die Veranstaltung eines weiteren deutsch-chinesischen Symposiums in München sowie die Einrichtung eines Patentprüferaustauschs zwischen den Ämtern.
Neben der engen Kooperation mit dem Staatlichen Amt für Geistiges Eigentum unterhält das Deutsche Patent- und Markenamt auch bilaterale Kontakte mit dem Chinesischen Markenamt (CTMO) und der State Administration for Industry and Commerce (SAIC). Von beiden Seiten wurde der Wunsch nach einer Ausweitung des Erfahrungsaustauschs im Bereich des Markenrechts und des Schutzes geographischer Herkunftsangaben bekräftigt.
Zudem engagiert sich das Deutsche Patent- und Markenamt in einem Projekt zum Schutz der geistigen Eigentumsrechte in China (IPR II), das die Europäische Union gemeinsam mit der Volksrepublik China ins Leben gerufen hat. Das Projekt wird vom Europäischen Patentamt (EPA) in Zusammenarbeit mit dem Harmonisierungsamt für den Binnenmarkt (HABM) und den Mitgliedstaaten der Europäischen Patentorganisation durchgeführt. Es verfolgt das Ziel, die reibungslose Integration Chinas in das Welthandelssystem zu fördern und den Übergang des Landes in eine Marktwirtschaft zu unterstützen. Das Deutsche Patent- und Markenamt übernimmt in dem Projekt die Koordinierungsfunktion für den Mitgliedstaat Deutschland und ist im Projektausschuss vertreten.
Japan
Das Deutsche Patent- und Markenamt und das Japanische Patentamt (JPO) verbindet ebenfalls eine langjährige Kooperation. Seit einigen Jahren werden im Rahmen eines regelmäßigen Patentprüferaustauschs praktische Fragen des Prüfungsverfahrens und der Patentrecherche diskutiert. Zudem legten unsere Ämter im Jahr 2007 den Grundstein für ein gemeinsames Pilotprojekt zum Patent Prosecution Highway (PPH - Eilweg zur Patenterteilung). Dabei sollen die Arbeitsergebnisse der deutschen und japanischen Patentbehörden ausgetauscht und gegenseitig genutzt werden. Nach dem amerikanischen, dem koreanischen und dem britischen Amt hat sich auch das Deutsche Patent- und Markenamt entschlossen, ein solches Pilotprojekt mit dem japanischen Patentamt aufzunehmen. Seit Frühjahr 2007 wurden intensive Gespräche mit dem japanischen Patentamt geführt, die im Oktober mit der Unterzeichnung eines entsprechenden Abkommens in Tokio erfolgreich abgeschlossen wurden. Der Start des gemeinsamen Pilotprojekts beginnt jetzt.
Indien
Im Herbst 2007 nahmen das indische Patentamt und das Deutsche Patent- und Markenamt erstmals die gemeinsame bilaterale Zusammenarbeit auf. Im Rahmen des Staatsbesuchs von Bundeskanzlerin Dr. Angela Merkel in Indien wurde eine Erklärung unterzeichnet, die eine Zusammenarbeit des Deutschen Patent- und Markenamts mit der indischen Patentbehörde Office of the Controller General of Patents, Designs and Trade Marks (CGPDTM) vorsieht. Geplant ist eine Zusammenarbeit in den Bereichen Kapazitäts- und Personalentwicklung sowie bei Programmen zur Sensibilisierung der Öffentlichkeit für das geistige Eigentum.
Im Frühjahr 2008 wird eine Delegation des Deutschen Patent- und Markenamts das indische Patentamt besuchen, um den Arbeitsplan für 2008/2009 zu erstellen. Die ersten Schulungsmaßnahmen sind noch für 2008 vorgesehen.
Brasilien
Ein weiteres sehr erfolgreiches Kooperationsprojekt unterhält das Deutsche Patent- und Markenamt mit dem Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI). Die Ende 2005 in Brasilien unterzeichnete Vereinbarung über die bilaterale Zusammenarbeit sieht den Austausch von Experten beider Ämter sowie Schulungsmaßnahmen für brasilianische Marken- und Patentprüfer vor. Es fanden bereits wiederholt Workshops in Rio de Janeiro und München statt. Neben allgemeinen Vorträgen zum Patentrecht, zur Recherche und zur Ausbildung neuer Prüfer standen auch spezielle Fachthemen wie die Prüfung von elektrotechnischen und chemisch-pharmazeutischen Anmeldungen auf dem Programm. Im vergangenen Herbst wurde eine Verlängerung des Projekts bis Ende 2009 vereinbart.
Dem Deutschen Patent- und Markenamt ist es ein ganz besonderes Anliegen, der weltweiten Entwicklung des Patentsystems durch internationale Zusammenarbeit mit anderen Patentbehörden neue Impulse zu geben und gemeinsame strategische Ziele, darunter auch die Bekämpfung der Produkt- und Markenpiraterie, zu verfolgen. Friedlicher Handel, das Verstehen und Wertschätzen anderer Kulturen ist eine der wesentlichen Voraussetzungen von Frieden, Freiheit und Wohlstand auf unserer Erde.