Kosten einsparen bei idealen Bedingungen

Nass-Trocken Werkbank

  • Nass-Trocken Werkbank © MK Versuchsanlagen  und Laborbedarf e.K.Nass-Trocken Werkbank © MK Versuchsanlagen und Laborbedarf e.K.
  • Nass-Trocken Werkbank © MK Versuchsanlagen  und Laborbedarf e.K.
  • Komplett metallfreie Reinräume MK-Versuchsanlagen © MK Versuchsanlagen  und Laborbedarf e.K.
  • Laborübersicht_Auch das Mobilar ist metallfrei © MK Versuchsanlagen  und Laborbedarf e.K.

Unter idealen Bedingungen arbeiten und dabei erhebliche Kosten einsparen, das ist mit der neu ent­wickelten metallfreien Nass-Trocken-Werkbank möglich, die der Sonderanlagenhersteller MK Versuchs­anlagen und Laborbedarf auf den Markt bringt.

Die als Minienvironments ausgelegte Nass-Trocken-Werkbank schafft höchste Sauberkeit am Ort des Geschehens. Dies ist insbesondere für Arbeitsprozesse in der Halbleitertechnologie interessant, in denen die Notwendigkeit der höchsten Reinheitsstufen nur direkt am Arbeitsplatz von Nöten ist (Reinraumklasse ISO 3).

Reduzierung des Energiebedarfs von bis zu 50 % im Luft­management möglich
Wie alle anderen metallfreien Anlagen von MK Versuchsanlagen verfügt die Nass-Trocken-Werkbank über eine von MK Versuchsanlagen selbst entwickelte Lüftung, die zu einer deutlichen Reduzierung des Energiebedarfs führt. Die Entwickler gehen davon aus, dass bei der Klimatisierung durch intelligentes Luftmanagement Energieeinsparungen von bis zu 50% möglich sind. Besonders interessant ist, dass eine Nachrüstung in bestehende Reinräume durch ein spezielles Lüftungskonzept, auch bei kritischen Raumlüftungen, einfach möglich ist und so auch hier der energiesparende Effekt realisiert werden kann. Selbstverständlich bieten die metallfreien Werkbänke auch höchsten Korrosions- und Produktschutz.

Einfache Integration in bestehende ­Systeme
In die Nass-Trocken-Werkbank integriert werden kann ein Quick Dump Rinse (QDR)-Becken zur Reinigung von Halbleiterplatten. Das QDR-Becken ist modular aufgebaut und gliedert sich in Prozessbecken und Auffangbecken. Im Prozessbecken erfolgt die Reinigung der Halbleiterplatten oder des Wafercarriers. Die Reinigung erfolgt über ein Sprühsystem, welches das Becken mit hochreinem Wasser befüllt und somit den Ätzprozess an den Halbleiterplatten stoppt. Um die Verunreinigungen von den Halbleiterplatten zu beseitigen, werden diese, durch den Sog der beim Öffnen des Ventils entsteht, hinausgeschwemmt.

Technische Daten zum QDR-Becken

  • Material:
  • Hochmoderner Kunststoff – Polypropylen (PP)
  • Fassungsvolumen: 22,5 l
  • Überlaufwehr: 360°
  • Anzahl Sprühdüsen: 8
  • Füllzeit: ca.

    120 Sekunden

  • Ablasszeit: ca. 10 Sekunden
  • Größe Wafercarrier: bis zu 8“
  • Spülmedium DI-Wasser
  • QDR-Ablassventil: 2,5 – 5,6 kg / cm²

So wie die gesamte Hardware aus dem Hause MK Versuchsanlagen ist auch die Software eine Eigenentwicklung des Sonderanlagenherstellers. Dies hat den großen Vorteil, dass eine Einbindung in bestehende, übergeordnete digitale Systeme deutlich einfacher realisiert werden kann. Die direkte GLT-Integration ist ebenso möglich wie die Anbindung an LIMS oder MES Systeme durch eine OPC UA Schnittstelle (Industrie 4.0). Somit ist es möglich, eine optimale Umgebung zu schaffen, die alle Prozesse und Prozessgeräte in die Minienvironments integriert.

Technische Ausstattung Nass-Trocken-Werkbank

  • Automatisierter Frontschieber mit individueller Einstellung
  • Lichtgitter
  • VSR-Anschlüsse für Zu- und Abluft
  • Beleuchtung (auch Gelblicht)
  • Arbeitskammer mit Drucküberwachung
  • für Prozess­sicherheit
  • Temperaturüberwachung Arbeitskammer und Abluft
  • Signal LED und Summer
  • SPS-Steuerung
  • Zuluftfilter (Klasse H14)

Optionale Ausstattung

  • Nass-Trocken-Werkbank
  • Integrierte Durchreiche zur Nachbarwerkbank
  • Anschlüsse für Thermische Aufschluss Einheit (TAE)
  • Medienversorgung auf Kundenwunsch (individuelle Prüfung)
  • Bedienteile für Medien (Hand, Fuß, Display)
  • Ultraschallbecken
  • Abluftwäscher und Abluftberieselung
  • Unterflurspülung
  • Trennwand
  • Anschlussmöglichkeiten Temperaturüberwachung
  • Fernwartung auf Kundenwunsch
  • Ionisator
  • Quick Dump Rinse-Becken
  • Prozessbecken
  • Spülbecken
  • Spin Coater

Kontaktieren

MK Versuchsanlagen und Laborbedarf e.K.

Mücke-Merl

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